近日，上海晰微光电技术有限公司（以下简称“晰微光电”）正式推出全新193nm窗口片产品。该产品针对深紫外波段光学应用场景专项优化，在193nm波长下透过率高达98%，兼具超高品质稳定性与高性价比优势，成功突破传统193nm光学元件的性能瓶颈，可广泛适配半导体光刻、光谱分析、激光加工等高端精密光学领域，为全球客户提供更具竞争力的光学解决方案。

        作为精密光学领域的深耕者，晰微光电始终聚焦高端光学元件的研发与制造，依托成熟的光学冷加工与精密镀膜核心技术，针对193nm深紫外波段的应用痛点，打造这款高性能窗口片。产品选用超高纯光学基材，采用真空坩埚提纯与精密抛光工艺，搭配定制化抗反射镀膜技术，有效降低表面反射损耗，确保193nm波长下的高透传输，同时将杂散光抑制率控制在极高水平，保障光学系统的成像精度与信号纯度。

        相较于市场同类产品，晰微光电193nm窗口片具备三大核心优势：一是高透高效，193nm波长透过率直达98%，远超行业平均水平，大幅提升光学系统的能量利用率；二是品质可靠，基材杂质含量控制在ppb级别，表面粗糙度Ra≤0.5nm，具备优异的热稳定性与化学惰性，可耐受复杂工况下的长期稳定运行，有效延长光学系统使用寿命；三是高性价比，依托公司自主研发的生产工艺优化，在保障高端品质的同时严控成本，打破高端193nm光学元件的价格壁垒，让更多客户可便捷获取高性能光学解决方案。

        据悉，193nm波段作为深紫外光学领域的核心应用波长，广泛应用于半导体193nm沉浸式光刻、深紫外光谱分析、激光微加工、环境监测等关键场景，对光学元件的透过率、稳定性提出极高要求。晰微光电这款193nm窗口片的推出，不仅完善了公司在深紫外光学元件领域的产品布局，更凭借精准的性能适配，可直接替代同类进口产品，助力国内高端光学设备的国产化替代进程。

        晰微光电相关负责人表示，此次193nm窗口片的上市，是公司技术创新实力的又一重要体现。未来，公司将持续深耕精密光学领域，聚焦全球客户的核心需求，不断推进光学元件的技术迭代与产品升级，优化生产工艺，提升产品竞争力，为半导体、医疗、激光、科研等领域的发展提供更优质、更高效的光学支撑，致力于成为全球值得信赖的精密光学元件供应商。

        目前，晰微光电193nm窗口片已完成批量生产准备，可根据客户需求提供定制化尺寸、厚度及镀膜方案，欢迎全球各地客户垂询洽谈，共探精密光学领域的创新应用可能。

        关于上海晰微光电技术有限公司：

        上海晰微光电技术有限公司专注于精密光学元件的研发、生产与销售，核心产品涵盖各类光学窗口片、滤光片、透镜等，凭借精密光学冷加工、高透镀膜等核心技术，为半导体、医疗成像、激光系统、工业检测、科研仪器等领域提供定制化光学解决方案，始终以“品质为先、创新驱动、客户至上”为理念，深耕行业、精益求精，助力全球精密光学产业高质量发展。