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UltraFast Innovations (UFI)极紫外（EUV）阿秒多层反射镜

UltraFast Innovations (UFI)极紫外（EUV）阿秒多层反射镜

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UltraFast Innovations (UFI)的极紫外光(EUV/XUV)阿秒多层反射镜设计用于阿秒脉冲的转向、聚焦和整形。他们的多层膜中心位于65eV（19nm），带宽为6eV（1.8nm），为 S 偏振光提供38%的峰值反射率。这些反射镜支持持续时间为330阿秒的极紫外（EUV）脉冲。 UFI极紫外（EUV/XUV）阿秒反射镜是基于高次谐波（HHG）、自由电子激光器（FEL）或其他量子光学应用产生和整形阿秒脉冲的理想选择。


  • 设计用于65eV（19nm）下的 330 阿秒脉冲

  • 具有38%峰值反射率的多层镀膜

  • ≤1Å 表面粗糙度超抛光基底

  • 另外提供专为 13.5nm 设计的极紫外（EUV）平面反射镜 和 极紫外（EUV）球面反射镜

  • 备有现货库存

  • 无最小起订量、无镀膜批次费用

                                             产品

标题产品编码Dia. (mm)表面平整度 (P-V)基底后表面涂层规格涂层AOI (°)CA (%)DWL (nm)边缘平行度（弧分）表面粗糙度（埃）
25.4mm Dia., 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Flat Mirror16-76525.40 ±0.13λ/10 Fused Silica (Corning 7980)Commercial Polish Rs > 38% @ 65eV/19nm EUV Multilayer (19nm) 5 80 19 Fine Ground <1 <1 
25.4mm Dia. x 250mm EFL, 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Concave Mirror16-76625.40 ±0.13
Fused Silica (Corning 7980)Commercial Polish Rs > 38% @ 65eV/19nm EUV Multilayer (19nm) 5 80 19 Fine Ground 
<1 
25.4mm Dia. x 500mm EFL, 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Concave Mirror16-76725.40 ±0.13
Fused Silica (Corning 7980)Commercial Polish Rs > 38% @ 65eV/19nm EUV Multilayer (19nm) 5 80 19 Fine Ground 
<1 

                                           技术数据