Seiwa 清和光学 SWIR 短波红外物镜｜PE IR Plan Apo 系列产品介绍

一、产品概况

Seiwa 清和光学是日本专业光学制造商，专注于高精度红外物镜、显微物镜、SWIR 短波红外镜头的研发与生产，产品广泛应用于半导体检测、MEMS 制造、晶圆检测、激光加工及科研成像等高端领域。

PE IR Plan Apo 系列红外物镜专为近红外 / SWIR 波段优化设计，采用平场复消色差光学结构，具备高透过率、高分辨率、长工作距离等特点，是高端检测设备、激光修复系统、红外成像系统的理想配套镜头。

二、产品特点

红外波段专用优化

针对 800–1600nm 短波红外波段进行专业色差校正，在 1064nm YAG 激光等典型波段成像效果优异。

Plan Apo 平场复消色差设计

全视场图像平坦清晰，中心到边缘画质均匀一致，无色差、无模糊、无明显场曲。

标准齐焦距离，便于系统集成

采用 95mm 标准齐焦距离，可与筒镜、相机、显微镜主体灵活组合，适配各类工业视觉与检测设备。

倍率覆盖全面

提供 1×、2.5×、10×、20×、50×、100× 全系列倍率选择，满足从宏观观察到高倍显微检测需求。

充裕工作距离

高倍率下仍保持合理工作距离，适合硅片、LCD、封装芯片等厚样品观测及激光加工场景。

工业级稳定耐用

结构紧凑坚固，品控严格，可满足产线在线检测、长时间连续工作环境。

三、产品优势

• 日本原装进口，品质稳定可靠

清和光学原厂生产制造，长期配套高端半导体装备，一致性与寿命表现优异。

• 高分辨率 & 高对比度

数值孔径搭配优秀光学设计，可清晰识别微小缺陷、内部结构与失效点。

• 大成像圈，兼容高像素相机

充分发挥大靶面、高分辨率相机性能，适合高精度视觉系统与自动化检测。

• 专为激光与红外检测优化

适用于光发射显微（EMMI）、激光修复、硅片透射观察、背面检测等特殊应用。

• 适配性强，易于替换升级

接口与安装尺寸标准化，可直接替换同类进口物镜，用于设备升级与维修替换。

四、核心参数参考

五、典型应用领域

半导体与晶圆检测

晶圆背面观察、硅片透射成像、芯片内部结构检测、半导体失效分析。

激光加工与修复

1064nm YAG 激光系统、激光修复装置、激光标记与微调设备。

MEMS 与光电子器件

MEMS 芯片检测、光电子封装检测、微结构观测与高精度对位。

红外显微与科研成像

SWIR 短波红外成像、近红外显微系统、材料分析、高校及研究所实验室平台。

工业自动化与在线检测

LCD / 面板检测、精密零部件检测、高分辨率工业视觉系统。

六、服务与支持

• 供应 Seiwa 清和光学全系列红外物镜、SWIR 物镜、Plan Apo 平场复消色差物镜。

• 提供型号选型、参数匹配、系统集成方案及技术支持。

• 原装正品保障，稳定供货，适合设备厂商与终端客户批量采购

Seiwa SWIR PE IR Plan Apo物镜经过色彩校正可在 800 – 1600nm 波段内具备高分辨率。这些物镜提适用于短波红外波长下的高分辨率成像。95毫米齐焦距，与 200mm 焦距的筒镜结合使用用于简单的系统集成。

【联系方式】

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电　　话： 021-5427 0855

手       机：136 6171 6328

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