Moxtek纳米结构解决方案（NanoStructure Solutions™）是Moxtek面向大批量制造（High Volume Manufacturing）的纳米结构光学元件设计与代工服务体系：Moxtek与客户协作，完成从设计、验证到大批量创建的端到端流程，提供快速设计迭代与纳米压印光刻（NanoImprint Lithography, NIL）优化选项，并采用统计过程控制（SPC）监控压印后的临界尺寸（Critical Dimension, CD）重复性，Moxtek生产纳米结构光学元件已超过20年，具备Ø200mm晶圆上的纳米结构器件大批量晶圆级复制能力——从原型打样到晶圆量产，一站完成，上海晰微光电可提供Moxtek全系列产品代采购服务，协助国内科研与工业客户对接原型打样、Design Master Shuttle流片、大批量晶圆订单的商务对接、资料整理、交付跟进工作。

Moxtek纳米结构解决方案核心制造能力

1、原型开发：Design Master Shuttle 共享流片服务：Moxtek提供周期性迭代的Design Master Shuttle共享母版流片服务，工程师可将多款不同结构设计放在同一批流片载体上完成测试，大幅降低研发时间与打样成本，每年可执行多批次 Shuttle 流片，支持客户定制纳米光学器件原型验证。

2、完整纳米加工链路

• 纳米压印光刻 (NIL)、母版制作、印章Stamp制备；

• 薄膜沉积：PECVD、磁控溅射 Sputter、ALD 原子层沉积；

• 刻蚀工艺：金属、高低折射率氧化物刻蚀；

• 检测表征：AFM 原子力显微镜、SEM 扫描电镜；

• 光学计量与全片检测；采用 SPC 统计过程控制，监控关键尺寸 CD 重复稳定性，保障批量一致性。

3、关键工艺参数

• 最小关键尺寸 CD 可达 50nm；

• 母版晶圆优选 200mm 硅片，兼容 300mm、150mm 硅片；

• 量产基底：200mm 玻璃 / 熔融石英 / 硅 / 蓝宝石，基板厚度区间 0.675‑1.8mm。

SEM电镜可观测典型样品结构，包含 800nm 高折射率氧化物纳米柱阵列、4‑态像素化偏振片、复杂拓扑超表面图案等，是元光学器件开发重要工艺输出物。

Moxtek纳米结构解决方案典型应用场景

• 车载成像与照明光学；

• 医疗、牙科成像设备；

• 消费及工业相机系统

• AR/VR 显示系统；

• 光子芯片、光波导、生物传感阵列。

Moxtek纳米结构解决方案可定制参数

国内企业、高校科研院所若需要开展Moxtek NIL流片、原型样件采购、金属超透镜定制、像素偏振片订货，可选择上海晰微光电代采购服务，解决跨境沟通、订单流程、物流报关、交付跟进难题；除Moxtek纳米结构解决方案外，上海晰微光电还提供Moxtek完整的偏振光学产品与X射线产品线，光学产品有：可见光偏振片、吸收式偏振片、超宽带偏振片、紫外偏振片、红外偏振片、像素化偏振片等线栅偏振片，X射线产品有：手持式X射线源与台式X射线源、XDRIFT™硅漂移探测器（SDD）与XPIN探测器，以及AP X射线窗口、DuraBeryllium®铍窗、ProLINE™ X射线窗口等；如需了解具体规格、报价与货期，欢迎联系上海晰微光电技术有限公司获取专业支持。